多層膜磁控濺鍍?cè)O(shè)備-北京瑞科中儀科技有限公司

產(chǎn)品分類

Product Category

電子束

激光光刻系統(tǒng) 納米加工

查看全部

相關(guān)文章

電子束光刻系統(tǒng)在半導(dǎo)體制造中的具體應(yīng)用有哪些？德國(guó)電子束曝光工藝流程是怎樣的？看完本篇你就會(huì)對(duì)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)有更多了解三目正置生物顯微鏡的觀察方法操作步驟相差顯微鏡成像原理北京瑞科中儀培訓(xùn)如何購(gòu)買奧林巴斯顯微鏡時(shí)需要留意的細(xì)節(jié)

詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,化工,電子/電池

多層膜磁控濺鍍?cè)O(shè)備的結(jié)構(gòu)廣泛用於各個(gè)領(lǐng)域，而對(duì)於精密系統(tǒng)則需要更嚴(yán)格的規(guī)格，包括光、聲音和電子元件。在單一材料薄膜無(wú)法滿足所需規(guī)格的精密系統(tǒng)中，高質(zhì)量多層膜的作用變得越來(lái)越重要。因此，新材料的開發(fā)和薄膜的精確控制製程已成為當(dāng)前多層薄膜研究的重要方向。

SYSKEY的多層膜磁控濺鍍?cè)O(shè)備系統(tǒng)擁有基板公自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，可實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)的多層膜結(jié)構(gòu)並可以一次批量生產(chǎn)。

應(yīng)用領(lǐng)域	腔體
半導(dǎo)體類。納米科技。產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量檢查。氧化物、氮化物和金屬材料的研究。太陽(yáng)能電池。光學(xué)研究。材料研究。	客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和其應(yīng)用。寬大的前開式門，並有兩個(gè)視窗和視窗遮版用於觀察基材和濺鍍?cè)?/span>。具有顯示功能的全領(lǐng)域真空計(jì)和用於壓力控制的Baratron真空計(jì)。腔體的極限真空度約為10^-8Torr。
配置和優(yōu)點(diǎn)	選件
客製化基板尺寸，最大直徑可達(dá)12寸晶圓。優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3％。磁控濺鍍?cè)矗ㄗ疃?個(gè)源），具有多種可選的靶材尺寸。射頻、直流或脈衝直流，分別用於非導(dǎo)電，導(dǎo)電靶材。具有順序操作或共沉積的多個(gè)濺鍍源。精準(zhǔn)流量控制器（最多4條氣體管線）。基板可加熱到600°C。可調(diào)節(jié)的基材到靶材之間距。每個(gè)濺鍍?cè)春突寰惭b遮板。	可以與傳送腔、機(jī)械手臂和手套箱整合在一起。結(jié)合離子源、熱蒸發(fā)源、電子束...。基板可用射頻或直流偏壓。膜厚監(jiān)測(cè)儀。射頻等離子清潔用於基材。 OES、RGA或製程監(jiān)控的額外備用端口。