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簡要描述：連續(xù)式多腔磁控濺鍍設(shè)備：In-Line的濺鍍沉積是指基板在一個或多個濺鍍陰極下方以線性的方式通過以獲取其薄膜沉積。其基板沿著軌道穿過各個真空腔內(nèi)。
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2024-07-10訪 問 量：602詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子/電池 |
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連續(xù)式多腔磁控濺鍍設(shè)備 In-Line的濺鍍沉積是指基板在一個或多個濺鍍陰極下方以線性的方式通過以獲取其薄膜沉積。其基板沿著軌道穿過各個真空腔內(nèi)。
連續(xù)式多腔磁控濺鍍設(shè)備其電漿產(chǎn)生器有許多種類並且每一種都可使用，例如射頻電源、直流電源或脈衝直流電源。 還可以容納諸如濺鍍蝕刻、基板加熱或電漿清洗之類的可選步驟，並且具有完整的儀器和控制裝置可用於金屬導(dǎo)電薄膜、電介質(zhì)、光學(xué)薄膜或其他濺鍍應(yīng)用。
SYSKEY的In-Line濺鍍沉積可精確控制其濺鍍製程條件，從而為客戶提供優(yōu)質(zhì)的薄膜。
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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| 配置和優(yōu)點 | 選件 |
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