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簡(jiǎn)要描述：單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)是一種先進(jìn)的材料制備技術(shù)，它利用脈沖激光的高能量密度來(lái)蒸發(fā)和電離靶材上的物質(zhì)，并在基底上沉積形成各種物質(zhì)薄膜。這種系統(tǒng)通常包括一個(gè)沉積室，其中激光聚焦于靶材上的一個(gè)小面積，使其材料蒸發(fā)或電離并向基底運(yùn)動(dòng)。基底通常保持在較低的溫度，以便在沉積過(guò)程中形成高質(zhì)量的薄膜。
產(chǎn)品型號(hào)：廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2024-07-10訪 問(wèn) 量：871產(chǎn)品分類
Product Category詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬(wàn)-50萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油,道路/軌道/船舶,制藥/生物制藥,綜合 | 腔體尺寸 | 圓柱形腔體，直徑：400 mm |
| 樣品尺寸 | 1 英寸或 2 英寸向下兼容 | 樣品加熱 | 輻射式加熱 / 電阻式加熱 / 激光加熱 1000 ℃ / 900 ℃ / 1200 ℃ |
| 靶臺(tái)操控 | 4 靶位，1 英寸靶托，公自轉(zhuǎn)設(shè)計(jì) | 抽氣泵組 | 進(jìn)口：Pfeiffer分子泵，355 l/s Leybold干泵，14.5 m3/h |
| 真空測(cè)量 | 進(jìn)口：Inficon MPG400復(fù)合規(guī) + CDG025D薄膜規(guī) | 氣路 | 進(jìn)口：質(zhì)量流量計(jì)MKS，50 / 100 sccm |
| 控壓方式 | 手動(dòng)角閥/漏閥控壓 | 極限真空 | 5 x 10-8 mbar |
| 光路支架 | 根據(jù)用戶現(xiàn)場(chǎng)情況定制 | 軟件控制 | 動(dòng)作程序控制，軟件編程控制工藝，設(shè)備全套互鎖 |
單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)是一種先進(jìn)的材料制備技術(shù)，它利用脈沖激光的高能量密度來(lái)蒸發(fā)和電離靶材上的物質(zhì)，并在基底上沉積形成各種物質(zhì)薄膜。這種系統(tǒng)通常包括一個(gè)沉積室，其中激光聚焦于靶材上的一個(gè)小面積，使其材料蒸發(fā)或電離并向基底運(yùn)動(dòng)?；淄ǔ１３衷谳^低的溫度，以便在沉積過(guò)程中形成高質(zhì)量的薄膜。
單腔體脈沖激光 沉積系統(tǒng)的主要特點(diǎn)包括：
1. 高沉積速率：由于激光的高能量密度，靶材上的物質(zhì)可以迅速蒸發(fā)和沉積到基底上，從而實(shí)現(xiàn)較高的沉積速率。
2. 精確控制：系統(tǒng)可以精確控制激光的脈沖能量、頻率和持續(xù)時(shí)間，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜厚度和沉積速率的精確控制。
3. 靈活性和多樣性：該系統(tǒng)可以制備多種不同類型的薄膜，包括金屬、氧化物、氮化物等。此外，通過(guò)調(diào)節(jié)工藝參數(shù)，還可以制備出具有不同結(jié)構(gòu)和性能的薄膜。
4. 高質(zhì)量薄膜：由于激光的高能量密度和精確控制，該系統(tǒng)可以制備出高質(zhì)量、均勻且致密的薄膜，適用于各種應(yīng)用。
單腔體脈沖激光 沉積系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)和工程學(xué)等領(lǐng)域，用于制備各種功能薄膜，如光學(xué)薄膜、電子薄膜、超導(dǎo)薄膜等。此外，該系統(tǒng)還用于研究薄膜的生長(zhǎng)機(jī)制、晶體結(jié)構(gòu)、表面形貌和性能等方面。
需要注意的是，單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)的使用需要一定的專業(yè)知識(shí)和經(jīng)驗(yàn)。在操作過(guò)程中，需要嚴(yán)格控制激光參數(shù)、基底溫度、氣氛等條件，以確保制備出高質(zhì)量的薄膜。此外，該系統(tǒng)還需要定期維護(hù)和清潔，以保持其性能和穩(wěn)定性。
總之，單腔體脈沖激光沉積 系統(tǒng)是一種重要的材料制備技術(shù)，具有廣泛的應(yīng)用前景和重要的科學(xué)價(jià)值。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和完善，它將在材料科學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)和工程學(xué)等領(lǐng)域發(fā)揮越來(lái)越重要的作用。
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