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電子束

激光光刻系統(tǒng) 納米加工

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奧林巴斯CX43三目生物顯微鏡適用性精準控膜，高效量產(chǎn)！磁控濺射系統(tǒng)適配多行業(yè)鍍膜需求在使用雙束電鏡時的這些事項要注意了探秘3D掃描電鏡工作原理：微觀世界的三維成像魔法脈沖激光沉積樣品臺的操作保養(yǎng)規(guī)程常規(guī)生物切片分析用什么顯微鏡

詳細介紹

品牌	其他品牌	應用領域	環(huán)保,化工,電子/電池

具有分辨率的直接激光刻錄機

PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機，可使用單個激光束創(chuàng)建高分辨率結構。這款多功能、低維護的激光刻錄機可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶友好的 PICOMASTER 系列為您的激光光刻挑戰(zhàn)提供了解決方案。

具有以下功能：

單聚焦光束寫入策略
分辨率低至 0.3 μm
4096級灰度光刻

即使在具有挑戰(zhàn)性的基材上也能進行專有自動對焦
最大 8" x 8" 暴露區(qū)域
無縫合曝光

PICOMASTER 直接激光刻錄機為您的微加工需求提供解決方案。

提供 405 和 375 激光源，保證 300 nm 的分辨率，因此 PICOMASTER 直接激光刻錄機可產(chǎn)生市場上最高分辨率。這些無掩模直接激光刻錄機增強了科學和工業(yè)目的的創(chuàng)新實力，為光子器件、微電子、MEMS、3D 光刻、光學可變器件 (OVD)、衍射光學元件等領域的研發(fā)帶來了機會。

PICOMASTER 是適合您實驗室的工具：

P RECISION：即使對于精細劑量也能提供高精度激光功率控制，即使在具有挑戰(zhàn)性的樣品上也能自動對焦，并且具有對準精度

解決方案：為特征和光柵提供的分辨率，特征周期低至 300 nm 以下

優(yōu)化：可以通過桌面或獨立系統(tǒng)選擇、適當?shù)募す庠床ㄩL和寫入模式選擇來針對任何類型的應用進行優(yōu)化

輪廓分析：提供高達 4096 級的灰度功能，而不影響曝光速度，實現(xiàn)2.5D 抗蝕劑輪廓分析

易于使用：內(nèi)部設計的對齊工具和*的用戶界面支持輕松的樣品處理，方便處理最常見的文件格式

降低維護成本：通過免維護運動平臺和長壽命光學模塊（10,000 小時）實現(xiàn)平穩(wěn)、快速且經(jīng)濟高效的維護，該模塊易于更換，無需上門服務

特征

解決

< 300 納米

灰度級別

4096

激光源

405 / 37

根據(jù)您的需求優(yōu)化直接激光刻錄機

PICOMASTER 直接激光刻錄機在可配置的平臺上工作，該平臺可以根據(jù)您的應用或特定實驗室條件進行優(yōu)化，以滿足您的需求。PICOMASTER 可以是桌面或獨立系統(tǒng)，可以針對不同類型的抗蝕劑具有不同的激光波長，并且可以為各種應用提供不同的光斑尺寸。如果需要，它可以與環(huán)境穩(wěn)定裝置結合使用。