反應(yīng)離子刻蝕機(jī)-刻蝕系統(tǒng)

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刻蝕機(jī)

日本傾斜角刻蝕英國(guó)光柵刻蝕進(jìn)口深硅刻蝕

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探索反應(yīng)離子刻蝕機(jī)的應(yīng)用與優(yōu)勢(shì) 深硅刻蝕技術(shù)開(kāi)啟微納加工新篇章在使用反應(yīng)離子刻蝕機(jī)時(shí)要注意這些才行等離子刻蝕機(jī)是一種利用等離子體來(lái)刻蝕材料的設(shè)備。其工作原理是怎么樣的？從三方面讓你對(duì)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)有更多了解等離子刻蝕機(jī)的優(yōu)勢(shì)

英國(guó)光柵刻蝕
英國(guó)光柵刻蝕三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能，非常適用于加工各種材料和結(jié)構(gòu)。

更新時(shí)間：2024-07-10型號(hào)：訪問(wèn)量：818

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日本傾斜角刻蝕
日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機(jī)家族，它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計(jì)和直接置片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)。Etchlab200的特征是簡(jiǎn)單和快速的樣品加載，從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab200的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。位于頂部電極和反應(yīng)腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。

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進(jìn)口深硅刻蝕
進(jìn)口深硅刻蝕：$n三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能，非常適用于加工各種材料和結(jié)構(gòu)。

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SI 591RIE等離子刻蝕機(jī)
RIE等離子刻蝕機(jī) 我們的等離子蝕刻設(shè)備包括用功能強(qiáng)大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面，參數(shù)窗口，工藝窗口，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

更新時(shí)間：2024-07-10型號(hào)：SI 591訪問(wèn)量：745

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Etchlab 200RIE等離子刻蝕機(jī)
RIE等離子刻蝕機(jī) 該等離子刻蝕機(jī)配備了用戶友好的強(qiáng)大軟件，具有模擬圖形用戶界面，參數(shù)窗口，工藝編輯窗口，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

更新時(shí)間：2024-07-10型號(hào)：Etchlab 200訪問(wèn)量：1187

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SI 500ICP-RIE等離子刻蝕機(jī)
ICP-RIE等離子刻蝕機(jī) 三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能，非常適用于加工各種材料和結(jié)構(gòu)。

更新時(shí)間：2024-07-10型號(hào)：SI 500訪問(wèn)量：3264

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